描述:M5000 PLUS 全譜直讀光譜儀是聚光科技基于十幾年的火花直讀光譜技術(shù),全新推出的基于CMOS(互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體)傳感器的光譜新產(chǎn)品,專為金屬材料分析行業(yè)打造的優(yōu)異的火花直讀光譜儀。主要為滿足金屬冶煉、鑄造加工及金屬科學(xué)研究等過程中金屬材料化學(xué)成分的分析檢測(cè),實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的質(zhì)量控制。
科研級(jí)CMOS檢測(cè)器,全元素分析,開創(chuàng)PPM級(jí)元素分析新紀(jì)元
噪聲低 科研級(jí)感光元件噪聲小,抗干擾強(qiáng),具備防光暈技術(shù)
抗干擾 CMOS探測(cè)器集成度高,可避免外部電路引入噪聲
讀取速度快 采用OEO(Optimal Element-Oriented)技術(shù),像素信號(hào)單獨(dú)讀取,實(shí)現(xiàn)參數(shù)優(yōu)化設(shè)計(jì)
紫外響應(yīng)高 優(yōu)異的紫外響應(yīng)靈敏度,無需鍍膜,實(shí)現(xiàn)非金屬元素(N,C,S,P)分析,效果更優(yōu)
經(jīng)典雙光室設(shè)計(jì),光譜范圍寬,元素分辨率有保證
獨(dú)立設(shè)計(jì)的紫外光學(xué)系統(tǒng),激發(fā)臺(tái)直接采光,專為N,C,S,P等紫外元素測(cè)量設(shè)計(jì),刻線數(shù)多,分辨率高,兼顧高分辨和譜線范圍優(yōu)勢(shì),譜線范圍寬,分析元素多,性能好
單獨(dú)設(shè)計(jì)的紫外光學(xué)系統(tǒng),體積小,結(jié)構(gòu)簡單,采用多孔吹掃技術(shù),可將空氣迅速吹掃干凈,確保元素分析效果
穩(wěn)定性升級(jí),重新定義光學(xué)產(chǎn)品穩(wěn)定性
壓鑄鋁合金整體光室,4級(jí)消除應(yīng)力處理
光室恒溫設(shè)計(jì),保證光譜位置長期穩(wěn)定,不漂移
氣流路的精確設(shè)計(jì),一切為了結(jié)果更穩(wěn)定
RTMC光譜優(yōu)化技術(shù),帶來更穩(wěn)定的體驗(yàn)
全數(shù)字脈沖光源,自動(dòng)選擇能量保證分析的準(zhǔn)確性與重復(fù)性
易用性升級(jí),給用戶更簡單、高效的使用體驗(yàn)
優(yōu)質(zhì)硬件與特定算法的結(jié)合,多重穩(wěn)定保障,更優(yōu)地監(jiān)控儀器運(yùn)行狀態(tài),提升分析效果,減少校準(zhǔn)頻率
支持全譜分析檢測(cè),拓展性更高。增加分析基體和元素?zé)o需增加硬件,通過軟件即可擴(kuò)展分析范圍,使用更靈活
智能曲線功能可滿足對(duì)材料的分析需求,真正實(shí)現(xiàn)未知樣品分析,無需糾結(jié)模型選擇,操作更加簡便
友好的人機(jī)交互設(shè)計(jì),軟件主界面簡潔清晰,圖形化顯示,短時(shí)間即可學(xué)會(huì)并熟練操作軟件
新增遠(yuǎn)程維護(hù)功能,可遠(yuǎn)程升級(jí)固件程序,遠(yuǎn)程檢查儀器狀態(tài),對(duì)儀器生命周期健康負(fù)責(zé)
應(yīng)用領(lǐng)域
應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械加工、鑄造、金屬材料科研、航空航天、造船、汽車、海關(guān)檢驗(yàn)、第三方檢測(cè)等諸多領(lǐng)域。